我的一九八五第九六五章 最高水平

一旦bsec光源研究所在重生者的指引下在arf准分子激光器专利技术的基础上研制成功arfi准分子激光器和浸没式光刻系统虽然浸没式光刻系统的专利技术属于bsec但根据双方签订的专利技术转让协定arfi准分子激光器的专利技术就属于gca！ gca生产arfi准分子激光器购买bsec的浸没式光刻系统专利技术也能生产浸没式光刻机。

早一日研制成功8英寸晶圆、350nm制程工艺的磁悬浮式双工作台系统制程工艺最高就能提升到250nm凭借提高35%的生产效率gikon光刻机的高端市场份额夺回全球高端光刻机市场。

峰回路转！ 艾德里安、汤普森的心情比魏建国、邓国辉还急迫。

谈判和签订专利技术转让协定期间孙健不在京城艾德里安和魏建国都拿着他签署的代理书谈判双方公司的律师在场监督并在专利技术转让协定上签字证明。

专利技术转让协定符合中美法律。

巴t协定禁止8英寸晶圆和500nm制程工艺的半导体生产线出口中g但没有禁止arf准分子激光器出口800nm制程工艺专利技术也不在禁令之中。

美国人知道就是中g光刻机公司耗费巨资买到了arf准分子激光器和800nm制程工艺专利技术也生产不出6英寸晶圆和800nm制程工艺的半导体生产线。

光刻机被称为半导体产业皇冠上的明珠占一条半导体生产线总投资的1/3除了光源、镜头和工作台三大核心技术之外还需要光速矫正器、能量控制器、遮光器、能量探测器、掩膜版、掩膜台和光束形状设置复杂程度超过大型航空发动机。

就像一般飞机制造厂买到一台顶级航空发动机也不能生产顶级飞机。

国内光刻机半导体设备产业停滞了近十年相关配套产业掉队太远不是短时间用钱能买来的！ bsec如今拿到了arf准分子激光器和800nm制程工艺专利技术还有独创的磁悬浮式双工作台系统既不能生产8英寸晶圆、800nm制程工艺的光刻机也不能生产6英寸晶圆、800nm制程工艺的半导体生产线。

bsec还要去买先进的光学系统进口6英寸晶圆、光刻胶、掩膜版等材料和设备经过系统合成就是能生产6英寸晶圆、800nm制程工艺的光刻机只能算组装。

前世asml生产的euv光刻机据说90%的零部件都是从全球5000多家公司采购的但euv光源（收购了cymer）和双工作台系统等关键技术是自己的还参股了zeisssmtag近三成的股权将光刻机的三大核心技术掌握在手里由于垄断经营净利润高达五成全球5000多家零部件公司排队供应零部件。

只要搭上asml这列豪华列车零部件公司的股价就会暴涨。

各国制定的《反垄断法》在asml面前如同一张白纸！ 邓国辉拿到arf准分子激光器专利技术同光源研究所所长助理钱富强仔细研究一番后如醍醐灌顶豁然开朗第二天就申请2000万元的研发资金定购新的机器设备和材料如今带领光源研究所在新的实验室内按照gca提供的技术图纸消化吸收arf准分子激光器专利技术为研究arfi准分子激光器和浸入式系统做准备。

等机器设备和材料到位后光源厂工程师和技师将按照光源研究所提供的技术图纸生产arf准分子激光器。

bsec由国内最顶尖的三家光刻机半导体设备研究所和三家配套工厂合并而成集国内光刻机半导体设备的研发、生产、封装和检测等技术之大成代表国内的最高水平虽然在光刻机光源技术上落后nikon一代、制程工落后艺四代但与当年处于鼎盛时期的gca一样拥有芯片生产所需要的光刻机、硅片、热处理、刻蚀机、离子注入机和光刻胶等六大生产设备和材料的研发和生产能力。

拥有半导体全产业链不担心被西方k脖子但大而不精大而不强！ 这种尴尬的局面不是重生者愿意看到的这是由国内光刻机半导体研发生产的现状和所处的国际环境决定的。

原中k院微电子中心、中k院沪海光学精密机械研究所、第45所、109厂、沪海光学仪器厂和建华机械厂的干部职工一共735人多出的13人是魏建国、李昌杰和钱国培遵照孙健的指示邀请钱富强、邓中海和张国伟等13名拥有副高和中级职称的辞职下海科研人员。

京城是国人向往的大都市住房和户口都有一家人从此成为京城人先进的实验室和现代化的工厂没有一人舍得放弃这次难得机会名单外的干部职工想来没门！ 本小章还未完请点击下一页继续阅读后面精彩内容！。

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